產(chǎn)品中心
Product Center
當(dāng)前位置：首頁(yè)
產(chǎn)品中心材料樣品處理小型濺射儀小型新款磁控濺射儀
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
KT-Z1650PVD是一款小型新款磁控濺射儀小型臺(tái)式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動(dòng)擋板功能。通過(guò)定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率，可對(duì)大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。
| 品牌 | 鄭科探 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類別 | 國(guó)產(chǎn) | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池 |
KT-Z1650PVD是一款小型新款磁控濺射儀小型臺(tái)式濺射功率可控磁控濺射儀，儀器雖小功能齊全，配備有電壓 電流反饋,樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)，樣品高度調(diào)節(jié)，及電動(dòng)擋板功能。通過(guò)定時(shí)調(diào)節(jié)預(yù)濺射功率及薄膜沉積功率，可對(duì)大部分金屬進(jìn)行均勻物理沉積，真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染，樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn)以獲得更均勻的薄膜，可制備各種金屬薄膜。
針對(duì)市場(chǎng)上其它型號(hào)我們做如下改進(jìn)
1 腔體擴(kuò)充口可增加擴(kuò)展口 大可擴(kuò)展KF40接口方便連接分子泵 或 晶控傳感器
2 樣品可旋轉(zhuǎn) 大轉(zhuǎn)速20轉(zhuǎn)每分鐘 使鍍膜樣品更均勻
3 輕旋轉(zhuǎn)機(jī)械手柄 樣品高度可精細(xì)調(diào)節(jié) 樣品距離靶材距離可到1mm
4 電動(dòng)擋板 使用人機(jī)界面程序控制打開或者關(guān)閉時(shí)間
5 可通過(guò)人機(jī)界面手動(dòng)或者使用編程自動(dòng)控制預(yù)濺射（洗靶） 恒定功率輸出 變換功率輸出 定時(shí)打開擋板（時(shí)間單位 秒）關(guān)閉擋板 樣品轉(zhuǎn)速 工藝可存儲(chǔ) 工藝名稱可改 利如 噴金20納米厚
6 腔體上蓋鉸鏈安裝 更換靶材方便操作
7 此產(chǎn)品已申請(qǐng)多項(xiàng)技術(shù) 抄襲請(qǐng)慎重?。。?/strong>
小型新款磁控濺射儀技術(shù)參數(shù)：
控制方式 | 7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制 |
濺射電源 | 直流濺射電源 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
大功率 | ≤1000W |
大輸出電壓電流 | 電壓≤1000V 電流≤1A |
極限真空 | 機(jī)械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺(tái) | 可旋轉(zhuǎn)φ62 （大可安裝φ50基底） |
樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速 | 8轉(zhuǎn)/分鐘 |
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離 | 40-105mm |
真空測(cè)量 | 皮拉尼真空計(jì)（已安裝 測(cè)量范圍10E5Pa 1E-1Pa） |
預(yù)留真空接口 | KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口 |
上一個(gè)：
返回列表
