小型等離子去膠機(jī)清洗機(jī)是一種通過等離子體(電離氣體)與材料表面發(fā)生物理/化學(xué)反應(yīng)，去除表面有機(jī)物、光刻膠或污染物的設(shè)備，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、光學(xué)器件等領(lǐng)域。
小型等離子去膠機(jī)清洗機(jī)的優(yōu)點(diǎn)：
1.高效清潔：等離子體中的活性粒子能夠深入到微觀層面，與膠水分子發(fā)生直接作用，即使是難以去除的頑固膠水殘留，也能在較短時(shí)間內(nèi)被清除。并且還能同時(shí)去除表面的其他污染物，實(shí)現(xiàn)清潔。
2.避免損傷基材：采用低溫等離子體技術(shù)，像“微風(fēng)拂面”般去除膠漬，避免高溫或機(jī)械刮擦對(duì)產(chǎn)品表面造成損傷，特別適合精密元器件和脆弱材料的去膠需求。
3.清潔：等離子體能夠深入縫隙和復(fù)雜結(jié)構(gòu)，輕松搞定各種頑固膠漬、油污和有機(jī)物殘留，清潔效率遠(yuǎn)超傳統(tǒng)方法。
4.提升材料性能：通過等離子體的處理，不僅可以去除表面的污染物和光刻膠，還可以改變材料表面的物理化學(xué)性質(zhì)，如提高表面能、增強(qiáng)附著力等，從而有利于后續(xù)的加工或使用。
5.環(huán)保節(jié)能：相比傳統(tǒng)的化學(xué)清洗方法，等離子清洗不需要使用大量的有機(jī)溶劑和酸堿等化學(xué)物質(zhì)，減少了廢水、廢氣的排放，對(duì)環(huán)境更加友好。同時(shí)，等離子清洗機(jī)的能耗相對(duì)較低，運(yùn)行成本也不高，符合現(xiàn)代工業(yè)的節(jié)能環(huán)保要求。
6.操作簡(jiǎn)便靈活：小型等離子去膠機(jī)清洗機(jī)的操作相對(duì)簡(jiǎn)單，只需要將待清洗的工件放入腔室，設(shè)置好相關(guān)的參數(shù)，如氣體種類、流量、射頻功率、清洗時(shí)間等，即可開始自動(dòng)清洗。而且設(shè)備體積較小，占地面積少，便于在不同的生產(chǎn)環(huán)境和工序中使用。
小型等離子去膠機(jī)清洗機(jī)的測(cè)定步驟：
1.開機(jī)前準(zhǔn)備
-檢查設(shè)備狀態(tài)：確認(rèn)電源連接正常，真空腔門密封良好(無變形或異物)，電極無腐蝕或污染。
-氣體管路檢查：確認(rèn)工藝氣體(如氧氣O、氬氣Ar、氮?dú)釴等)鋼瓶壓力正常，管路無泄漏；若為多氣體系統(tǒng)，需確認(rèn)氣體切換閥功能正常。
-樣品預(yù)處理：將待清洗/去膠的樣品固定在托盤上(避免重疊或晃動(dòng))，確保表面無明顯大塊顆粒物(防止局部放電不均)。
-參數(shù)預(yù)設(shè)：根據(jù)工藝需求，在控制面板設(shè)置基礎(chǔ)參數(shù)(如功率、時(shí)間、氣壓、氣體流量等)；若為使用，建議參考設(shè)備手冊(cè)或通過小批量測(cè)試確定初始參數(shù)。
2.裝樣與抽真空
-裝入樣品：打開真空腔門，將樣品平穩(wěn)放入腔室(注意與電極間距，通常保持5-10mm)，關(guān)閉腔門并鎖緊。
-啟動(dòng)真空泵：開啟真空泵，觀察真空計(jì)讀數(shù)，目標(biāo)真空度一般為10~10 Torr(具體因工藝而異，如去膠常需低真空)。若長(zhǎng)時(shí)間未達(dá)到目標(biāo)真空，需檢查腔室密封或泵性能。
3.通入工藝氣體與等離子體激發(fā)
-調(diào)節(jié)氣體流量：緩慢開啟氣體閥門，通過流量計(jì)控制氣體流量(如O常用50-200 sccm)，使腔室壓力穩(wěn)定在設(shè)定值(通常0.1-1 Torr)。
-啟動(dòng)射頻(RF)電源：開啟射頻發(fā)生器，調(diào)節(jié)功率(小型設(shè)備多為50-500W)，觀察腔室內(nèi)是否產(chǎn)生均勻輝光(等離子體顏色因氣體不同而變化，如O為淡藍(lán)色，Ar為紫紅色)。若無輝光，可能是電極接觸不良或氣體未電離，需排查。
4.處理過程監(jiān)控
-實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)：通過觀察窗或內(nèi)置攝像頭監(jiān)控等離子體狀態(tài)(如輝光是否均勻、有無打火現(xiàn)象)；記錄關(guān)鍵參數(shù)(功率、氣壓、溫度、時(shí)間)的穩(wěn)定性。
-溫度控制：部分設(shè)備配備冷卻系統(tǒng)(如風(fēng)冷或水冷)，需確保電極/腔室溫度不超過樣品耐受極限(如有機(jī)膠層通常耐溫<150℃)。
5.結(jié)束與取樣
-關(guān)閉射頻與氣體：處理完成后，先關(guān)閉射頻電源，再關(guān)閉氣體閥門，最后關(guān)閉真空泵。
-放氣與開艙：緩慢打開放氣閥(避免氣流沖擊樣品)，待腔室恢復(fù)常壓后，打開腔門取出樣品。
-效果檢測(cè)：通過接觸角測(cè)量(親水性提升)、XPS(表面元素分析)或顯微鏡觀察，驗(yàn)證去膠/清洗效果；若未達(dá)標(biāo)，需調(diào)整參數(shù)(如延長(zhǎng)時(shí)間、增加功率或更換氣體配比)。
更新時(shí)間：2026-01-19
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